Effects of the deposition parameters on the growth of ultra-thin and thin SiO2 films prepared by RF magnetron sputtering
Articolo
Data di Pubblicazione:
2007
Tipologia CRIS:
1.1 Articolo in rivista
Keywords:
SiO2; ultra thin films; rf sputtering
Elenco autori:
Mustarelli, Piercarlo; Marabelli, Franco; Quartarone, Eliana; M. P., Infante Garcia; E., Bontempi
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