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  1. Pubblicazioni

Effects of the deposition parameters on the growth of ultrathin and thin SiO2 films

Articolo
Data di Pubblicazione:
2007
Tipologia CRIS:
1.1 Articolo in rivista
Keywords:
SiO2; thin films; rf sputtering; ellipsometry
Elenco autori:
Quartarone, Eliana; Mustarelli, Piercarlo; Grandi, Stefania; Marabelli, Franco; Bontempi, L.
Autori di Ateneo:
MARABELLI FRANCO
QUARTARONE ELIANA
Link alla scheda completa:
https://iris.unipv.it/handle/11571/35384
Pubblicato in:
THE JOURNAL OF VACUUM SCIENCE AND TECHNOLOGY
Journal
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