TID-Induced Degradation in Static and Noise Behavior of Sub-100 nm Multifinger Bulk NMOSFETs

Articolo

Data di Pubblicazione:

2011

Tipologia CRIS:

1.1 Articolo in rivista

Keywords:

ionizing radiation effects; electronic noise; nanoscale CMOS; shallow trench isolation

Elenco autori:

Autori di Ateneo:

RATTI LODOVICO

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Pubblicato in:

Journal